噴砂機工藝涂層處理
噴砂機VD是通過氣相物質(zhì)的化學反應在基材表面沉積固體薄膜的一種工藝方法。CVD技術發(fā)展較早，已應用于20世紀60年代硬質(zhì)合金刀具的涂層處理，并廣泛應用于硬質(zhì)合金可轉(zhuǎn)位刀具中。在CVD工藝中，制備氣相沉積所需的金屬源相對容易，可以進行TiBN、TiB2、TiN、TiC、TiCN、、Al2O3等單層和多層復合涂層，涂層與基體結合強度高，膜厚7～9μm，CVD涂層具有良好的耐磨性。據(jù)統(tǒng)計，上世紀80年代中后期，美國85%的硬質(zhì)合金工具采用涂層處理，其中CVD涂層占99%；20世紀90年代中期，CVD涂層硬質(zhì)合金刀具仍占80%以上。CVD涂層技術有很多優(yōu)點：1.涂層源的制備比較容易。2.涂層均勻性較好。3.成膜粒子的能量很低，所以涂層的內(nèi)應力很低。4.可以得到較厚的涂層。5.涂層的耐磨性很好。但CVD涂層技術也存在一些缺陷：
1噴砂機工藝處理溫度較高，刀具材料的抗彎強度會降低。2.CVD涂層技術排放的廢氣會造成嚴重的環(huán)境污染。因此，自20世紀90年代中期以來，高溫CVD涂層技術的發(fā)展和應用受到限制。20世紀80年代末，KrupWidia開發(fā)的低溫化學氣相沉積技術（PCVD）該技術的工藝處理溫度已降至450℃至650℃，能有效抑制應用，η相產(chǎn)生，可以進行TiN、TiCN、TiC等金屬涂料用于螺紋刀具、銑刀、鉆頭等，但PCVD技術在刀具涂料領域的應用還不是很廣泛。20世紀80年代末，MT-CVD技術（中溫化學氣相沉積技術）在CVD涂層技術上取得了實質(zhì)性突破。該技術的機理與高溫CVD涂層技術相同，但涂層溫度僅為700℃至900℃，正朝著更低的溫度和更高的真空度方向發(fā)展。MT—CVD涂層技術的突出優(yōu)點是沉積速度快，涂層厚度均勻，涂層附著力強，內(nèi)部殘余應力小。但MT-CVD涂層技術的主要缺點是產(chǎn)生嚴重的環(huán)境污染問題，其次，其涂層內(nèi)部產(chǎn)生拉應力，容易產(chǎn)生裂紋。新型MT-CVD技術是含CCVD、N有機物乙腈(CH3)CN）主要反應氣體混合TiCL4、H2、N2在700℃到900℃的溫度下產(chǎn)生分解、化學反應和TiCN的新方法。該方法獲得的涂層為致密纖維結晶形式，涂層厚度可達8-10μm。涂層結構為致密纖維狀結晶，因此具有很高的耐磨性、耐熱震性和韌性。再通過高溫化學氣相沉積技術（HT-CVD技術)Al2O3、Tin等抗氧化性能好、高溫性能好、與加工材料親和力小的材料沉積在表層涂層上。高溫化學氣相沉積技術適用于高速、高溫、大負荷的干切削條件，刀具壽命是普通涂層刀片的兩倍。我國CVD涂料技術的研究始于20世紀70年代初。由于該技術的專用性強，80年代中期實用，與國際噴砂機CVD技術水平相當；未來十年，國內(nèi)外發(fā)展相似，相對緩慢；我國PCVD技術的研究始于20世紀90年代初，主要用于模具涂料，在刀具領域的應用不是很廣泛。總的來說，我國CVD技術與國際先進水平保持同步。